趕緊看過來！光催化除臭裝置的工作原理及特點介紹

　　光催化除臭裝置是目前工業廢氣處理技術中先進的技術之一，它的開發充分考慮了工業廢氣性質的不確定性和複雜性，從工程的設計、配套、安裝、調試、維護等方麵提供了很大的可行性、可靠性、靈活性、有效性，下麵簡單介紹下光催化除臭裝置的工作原理與優點。

　　光催化除臭裝置的除臭機製主要包括兩方麵：

　　一、高壓放電等離子體的過程，高能量產生的高頻放電，釋放一些有害的氣體分子化學能，使其成為無害的元素原子或分子；

　　二、由於高壓放電等離子體，其中包含大量的高能電子，積極的和消極的離子、激發態粒子和有很強的氧化自由基，粒子和氣體分子碰撞我的活動部分，在電場的作用下，激發態的氣味分子。當氣味分子獲得的能量超過其分子鍵的結合能時，臭味分子的化學鍵就會分解並直接分解成單個或無害的單個原子分子。同時，大量的活性自由基，如OH，HO2，被高度氧化，與有害氣體分子發生化學反應，產生無害的產物。光催化除臭裝置在處理廢氣和廢水的過程中，同時粉塵、除臭劑、消毒滅菌、有機廢氣的降解、負氧離子的釋放和許多加工效果。光催化除臭裝置在處理廢氣和廢水方麵具有廣泛的環境保護作用。

　　.處理效率高：

　　設備能有用去掉硫化氫(H2S)、氨(NH3)、甲硫醇等特定的汙染物，以及各種異(臭)味，作用可達90%以上。

　　.出資省、運轉安穩、能耗低：

　　采用進口高科技活性氧發作及操控器，風阻小，壽命長，電耗極小。

　　.純物理法原理、安全可靠：

　　氧化反應在常溫常壓下進行，無二次汙染。

　　.沒備全主動運轉：

　　無需專人辦理，辦理便利，運轉費用極低。可接連運轉且也適合於連續運轉。

　　.主動操控、操作簡便：

　　經過如PLC等自控，可遠程或就地二種操控，在就地操控時有手動和主動二種操控形式體積小、自重輕，占地麵積小，光催化除臭裝置適合於安置緊湊、場地狹小等特別條件的改造項目。